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J-GLOBAL ID：200902120051478921   整理番号：94A0657304

蒸着の際のイオン衝撃による優先的結晶配向性を持つ薄膜の成長

Growth of thin films with preferential crystallographic orientation by ion bombardment during deposition.

著者 (1件)： ENSINGER W (Univ. Heidelberg, Heidelberg, DEU)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 65  号： 1/3  ページ： 90-105  発行年： 1994年07月 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 結晶配向性の一般的考え方と評価方法を解説すると同時にイオン衝...

シソーラス用語： 窒化物 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 蒸着 ,  イオン衝撃 ,  優先 ,  結晶配向性 ,  薄膜 ,  成長