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J-GLOBAL ID：200902120361365477   整理番号：02A0815474

H-フェリエライト上におけるC₂H₄によるNO₂選択的接触還元の生成物解析

Product Analysis of Selective Catalytic Reduction of NO₂ with C₂H₄ over H-Ferrierite.

著者 (6件)： NANBA T (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN) ,  OBUCHI A (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN) ,  SUGIURA Y (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN) ,  KOUNO C (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN) ,  UCHISAWA J (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN) ,  KUSHIYAMA S (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba, JPN)
資料名： Journal of Catalysis  (Journal of Catalysis)
巻： 211  号： 1  ページ： 53-63  発行年： 2002年10月01日 
JST資料番号： H0480A  ISSN： 0021-9517  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記NO₂選択的接触還元(SCR)の反...

シソーラス用語： *合成ゼオライト ,...
準シソーラス用語： TPD【脱着】 ,...

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分類 (3件)： その他の触媒  (CB06123Z) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  排ガス処理  (PB02060U)

物質索引 (2件)： エチレン ,  ニトロエチレン

タイトルに関連する用語 (5件)： フェリエライト ,  NO2 ,  選択的接触還元 ,  生成物 ,  解析