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J-GLOBAL ID：200902120473243714   整理番号：98A0973686

金属・半導体と水酸イオンの電気化学反応及び超純水による加工への応用 (第1報)

Application to working by electrochemical reaction between metal, semiconductor, and hydroxyl ion and by ultrapure water ( the first report ).

著者 (5件)： 森勇蔵 (大阪大 大学院) ,  後藤英和 (大阪大 大学院) ,  広瀬喜久治 (大阪大 大学院) ,  小畠巌貴 (大阪大 大学院) ,  当間康 (荏原製作所)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 1998  号： 秋季  ページ： 443  発行年： 1998年09月 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

引用文献 (1件)：

• 佐藤敏一. 特殊加工. 1992, 206

タイトルに関連する用語 (4件)： 水酸イオン ,  電気化学反応 ,  純水 ,  応用