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J-GLOBAL ID：200902120619816894   整理番号：98A0069238

二酸化チタン薄膜の極めて低強度のUV照射による光触媒反応の速度

Kinetics of Photocatalytic Reactions under Extremely Low-Intensity UV Illumination on Titanium Dioxide Thin Films.

著者 (3件)： OHKO Y (Univ. Tokyo, Tokyo) ,  HASHIMOTO K (Univ. Tokyo, Tokyo) ,  FUJISHIMA A (Univ. Tokyo, Tokyo)
資料名： Journal of Physical Chemistry A  (Journal of Physical Chemistry A)
巻： 101  号： 43  ページ： 8057-8062  発行年： 1997年10月23日 
JST資料番号： C0334B  ISSN： 1089-5639  CODEN： JPCAFH  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化チタン薄膜を光触媒として36nWから45μW・cm<s...

シソーラス用語： 酸化チタン ,...
準シソーラス用語： イソプロピルアルコール

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分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： 2-プロパノール

タイトルに関連する用語 (3件)： 二酸化チタン薄膜 ,  UV照射 ,  光触媒反応