種々の作業圧力で成長させたスパッタ堆積酸化ニッケル膜の微細構造とエレクトロクロミック特性

AHN K-S; NAH Y-C; SUNG Y-E

文献

J-GLOBAL ID：200902120789981580 整理番号：02A0661917

種々の作業圧力で成長させたスパッタ堆積酸化ニッケル膜の微細構造とエレクトロクロミック特性

Microstructural and electrochromic properties of sputter-deposited Ni oxide films grown at different working pressures.

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巻： 92 号： 3 ページ： 1268-1273 発行年： 2002年08月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

RFスパッタリングにより作業圧力(2.7~20mTorr)を...

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電気光学効果,磁気光学効果 , 酸化物薄膜

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