プラズマCVD B(C,N)フィルムのシリコン基板への接着力

文献

J-GLOBAL ID：200902121288039864 整理番号：99A0552279

Adhesion strength of plasma-assisted CVD B(C,N) film to silicon substrate.

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資料名：
巻： 13 号： 5 ページ： 615-627 発行年： 1999年05月
JST資料番号： T0475A ISSN： 0169-4243 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

B含量の高い非結晶質B(C,N)で構成するほう素炭窒化物の薄...

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接着剤の性質・試験

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