非晶質窒化炭素膜の誘電特性への水素と酸素プラズマ処理による影響

文献

J-GLOBAL ID：200902122089940630 整理番号：01A0552205

The effect of hydrogen- and oxygen-plasma treatments on dielectric properties of amorphous carbon nitride films.

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巻： 10 号： 3/7 ページ： 1147-1151 発行年： 2001年03月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

黒鉛ターゲットと窒素ガスを用いた反応性RFスパッタリングによ...

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その他の無機化合物の薄膜 , 強誘電体,反強誘電体,強弾性

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