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J-GLOBAL ID：200902122199885596   整理番号：98A0785742

RFおよびDC同時マグネトロン励起により作製した透明伝導性ZnO(:Al)膜

Transparent and conducting ZnO(:Al) films deposited by simultaneous RF- and DC-excitation of a magnetron.

著者 (3件)： ELLMER K (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU) ,  CEBULLA R (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU) ,  WENDT R (Hahn-Meitner-Inst., Berlin, DEU)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 317  号： 1/2  ページ： 413-416  発行年： 1998年04月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヘテロ接合薄膜太陽電池の窓層と接触層の作製には通常,酸化亜鉛...

シソーラス用語： *薄膜成長 ,...
準シソーラス用語： 比抵抗

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： RF ,  DC ,  マグネトロン ,  励起 ,  作製 ,  ZnO ,  Al