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J-GLOBAL ID:200902122496968786   整理番号:98A0067432

6H-SiC上に成長させたGaNエピタキシャル層における二軸性歪のRamanおよび光ルミネセンス測定

Raman and photoluminescence studies of biaxial strain in GaN epitaxial layers grown on 6H-SiC.
著者 (9件):
資料名:
巻: 82  号: 10  ページ: 5097-5102  発行年: 1997年11月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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MOCVD法で6H-SiC基板に成長させた高品質GaNエピタ...
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル 

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