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J-GLOBAL ID：200902123135963409   整理番号：00A0710585

GeとSiの酸化物の熱分解経路 明瞭な相違の観測

Thermal decomposition pathway of Ge and Si oxides: observation of a distinct difference.

著者 (4件)： PRABHAKARAN K (NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN) ,  MAEDA F (NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN) ,  WATANABE Y (NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN) ,  OGINO T (NTT Basic Res. Lab., Atsugi, JPN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 369  号： 1/2  ページ： 289-292  発行年： 2000年07月03日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ge(100)面とSi(100)面に形成した極薄酸化膜の熱分...

シソーラス用語： *酸化ゲルマニウム ,...

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分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ge ,  Si ,  酸化物 ,  分解経路 ,  相違 ,  観測