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J-GLOBAL ID：200902123606445829   整理番号：94A0180160

ECRプラズマ励起水素ラジカルCVD法による微結晶SiC膜

Microcrystalline SiC films prepared by ECR plasma-excited HRCVD.
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著者 (3件)：
榎本英次

榎本英次 について

(長岡技科大)

長岡技科大 について

, 
安井寛治

安井寛治 について

(長岡技科大)

長岡技科大 について

, 
赤羽正志

赤羽正志 について

(長岡技科大)

長岡技科大 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 54th  号： 2  ページ： 839  発行年： 1993年09月 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
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タイトルに関連する用語
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ECRプラズマ

ECRプラズマ について

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励起

励起 について

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水素ラジカル

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CVD法

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微結晶

微結晶 について

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SiC

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