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J-GLOBAL ID：200902124663211962   整理番号：94A0189765

プラズマ蒸着した酸化窒化けい素膜中への重水素の拡散

Deuterium diffusion into plasma-deposited silicon oxynitride films.

著者 (3件)： ARNOLDBIK W M (Univ. Utrecht, Utrecht, NLD) ,  MAREE C H M (Univ. Utrecht, Utrecht, NLD) ,  HABRAKEN F H P M (Univ. Utrecht, Utrecht, NLD)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 74  号： 1  ページ： 103-113  発行年： 1994年01月 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマCVDにより作製した酸化窒化けい素膜をD<sub>2...

シソーラス用語： ケイ素化合物 ,...
準シソーラス用語： オキシ窒化けい素 ,...

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分類 (2件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  同位体交換  (CB10020G)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ蒸着 ,  酸化窒化けい素 ,  重水素 ,  拡散