光触媒技術の最新動向  光触媒膜の作製技術  スパッタリング法による酸化ケイ素/酸化チタン/酸化ケイ素膜の作製

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J-GLOBAL ID：200902125176702710 整理番号：02A0246626

光触媒技術の最新動向光触媒膜の作製技術スパッタリング法による酸化ケイ素/酸化チタン/酸化ケイ素膜の作製

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 50 号： 2 ページ： 67-69 発行年： 2002年02月01日
JST資料番号： F0013B ISSN： 0289-4343 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：紹介的記事発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

富山県工業技術センター,(株)タカギセイコウー,及びアルバッ...

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触媒操作 , 酸化物薄膜

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