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J-GLOBAL ID：200902125521780923   整理番号：99A0650863

ほう素含有ポリイミド膜の炭化 B-N結合形成

Carbonization of boron containing polyimide films. B-N bond formation.

著者 (5件)： KONNO H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  OKA H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SHIBA K (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TACHIKAWA H (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  INAGAKI M (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 37  号： 6  ページ： 887-895  発行年： 1999年 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2種の標記膜を,1)ポリアミド酸へのジヒドロキシフェニルボラ...

シソーラス用語： *ドーピング ,...

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分類 (4件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の高分子材料  (YH07150C) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  原子・分子一般  (BH01010O)

物質索引 (1件)： 4,4′-オキシビスアニリン

タイトルに関連する用語 (4件)： ほう素 ,  ポリイミド膜 ,  炭化 ,  B-N結合