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J-GLOBAL ID：200902125527674238   整理番号：97A0063923

焼結Ta-Niターゲットを用いたエキシマレーザアブレーションによる蒸着アモルファス合金膜

Amorphous alloy films deposited by excimer laser ablation using sintered Ta-Ni targets.

著者 (4件)： YANO T (AIST, MITI, Kagawa, JPN) ,  OOIE T (AIST, MITI, Kagawa, JPN) ,  YONEDA M (AIST, MITI, Kagawa, JPN) ,  KATSUMURA M (AIST, MITI, Kagawa, JPN)
資料名： Journal of Materials Science Letters  (Journal of Materials Science Letters)
巻： 15  号： 22  ページ： 1994-1996  発行年： 1996年11月15日 
JST資料番号： D0919B  ISSN： 0261-8028  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ法では高エネルギー密度の原子とイオンをターゲット...

シソーラス用語： 非晶質 ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  非晶質金属の構造  (BK04020D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 焼結 ,  Ta ,  Ni ,  ターゲット ,  蒸着 ,  アモルファス合金