Reactive ion-plating at low ion energies with an unbalanced magnetron.

文献

J-GLOBAL ID：200902125531004417 整理番号：93A0387837

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巻： 44 号： 3/4 ページ： 191-195 発行年： 1993年03月
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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