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J-GLOBAL ID：200902125779388610   整理番号：96A0799089

ニオブおよびタンタル五塩化物と一級アミンとの反応から誘導したイミド錯体 金属ニトリドフィルムの化学蒸着への関連性

Imido Complexes Derived from the Reactions of Niobium and Tantalum Pentachlorides with Primary Amines: Relevance to the Chemical Vapor Deposition of Metal Nitride Films.

著者 (5件)： JAYARATNE K C (Wayne State Univ., Michigan) ,  YAP G P A (Univ. Delaware, Delaware) ,  HAGGERTY B S (Univ. Delaware, Delaware) ,  RHEINGOLD A L (Univ. Delaware, Delaware) ,  WINTER C H (Wayne State Univ., Michigan)
資料名： Inorganic Chemistry  (Inorganic Chemistry)
巻： 35  号： 17  ページ： 4910-4920  発行年： 1996年08月14日 
JST資料番号： C0566A  ISSN： 0020-1669  CODEN： INOCAJ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MCl₅とt-BuNH<sub>2<...

シソーラス用語： 化学蒸着 ,...
準シソーラス用語： アミン錯体 ,...

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分類 (3件)： 遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X) ,  固体デバイス材料  (NC03020K) ,  第4族,第5族元素の錯体  (CE01070U)

タイトルに関連する用語 (10件)： ニオブ ,  タンタル ,  塩化物 ,  一級アミン ,  誘導 ,  イミド錯体 ,  ニトリド ,  フィルム ,  化学蒸着 ,  関連性