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J-GLOBAL ID：200902125815231537   整理番号：94A0463160

酸化亜鉛薄膜を中間層に用いる新無電解めっき法

New Electroless Plating Method using ZnO Thin Film as an Intermediate Layer.

著者 (3件)： 吉識肇 (東大 大学院) ,  橋本和仁 (東大 工) ,  藤嶋昭 (東大 工)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 45  号： 5  ページ： 498-502  発行年： 1994年05月 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 酸化亜鉛膜を高熱伝導性セラミック基板と金属膜との間に介在させ...

シソーラス用語： 無電解めっき ,...

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分類 (2件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (20件)：

• 1) 吉識肇, 一柳純一, 金正〓 橋本和仁, 藤嶋昭; 表面技術協会第85回講演大会講演要旨集, p.25 (1992)
• 2) 本間英夫, 水島信也; 金属表面技術, 33, 380 (1982)
• 3) 斎藤誠, 海老名延郎; DENKI KAGAKU, 58, 688 (1990)
• 4) 岡村寿郎, 川岸重光, 神戸徳蔵, 鷹野修; 無電解めっきの応用, p.39 (槙書店, 1991)
• 5) 逢坂哲彌, 中島英治, 田宮幸広, 小岩一郎; 表面技術, 40, 573 (1989)

タイトルに関連する用語 (3件)： 酸化亜鉛薄膜 ,  中間層 ,  無電解めっき法