フェムト秒レーザプラズマX線を用いたシリコンの時分解軟X線吸収分光

NAKANO H; GOTO Y; LU P; NISHIKAWA T; UESUGI N

文献

J-GLOBAL ID：200902125890237699 整理番号：99A0983644

フェムト秒レーザプラズマX線を用いたシリコンの時分解軟X線吸収分光

Time-resolved soft x-ray absorption spectroscopy of silicon using femtosecond laser plasma x rays.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=99A0983644&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0983644&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 75 号： 16 ページ： 2350-2352 発行年： 1999年10月18日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

プローブとしてフェムト秒レーザ誘起プラズマからのピコ秒軟X線...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0983644&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

X線スペクトル一般 , レーザ照射・損傷

, , , , , ,

前のページに戻る