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J-GLOBAL ID：200902126157835632   整理番号：01A1033607

in situ自己還元によるシリカ薄膜中に埋め込まれた高密度銀ナノ粒子の形成と特性評価

Formation and characterization of high-density silver nanoparticles embedded in silica thin films by “in situ” self-reduction.

著者 (5件)： COMPAGNINI G (Univ. Catania, Catania, ITA) ,  FRAGALA M E (Univ. Catania, Catania, ITA) ,  D’URSO L (Univ. Catania, Catania, ITA) ,  SPINELLA C (IMeTeM, CNR, Catania, ITA) ,  PUGLISI O (Univ. Catania, Catania, ITA)
資料名： Journal of Materials Research  (Journal of Materials Research)
巻： 16  号： 10  ページ： 2934-2938  発行年： 2001年10月 
JST資料番号： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機金属前駆体(ヘキサフルオルアセチル)(テトラグリム)銀を...

シソーラス用語： *銀 ,...
準シソーラス用語： *シリカ ,...

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分類 (1件)： その他の無機工業薬品,無機材料  (YB02090K)

物質索引 (2件)： テトラグリム ,  ヘキサフルオロアセチルアセトン

タイトルに関連する用語 (7件)： 自己 ,  還元 ,  シリカ ,  薄膜 ,  高密度 ,  銀ナノ粒子 ,  特性評価