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J-GLOBAL ID：200902126423995560   整理番号：97A0144389

四面体非晶質炭素薄膜の構造

The structure of tetrahedral amorphous carbon thin films.

著者 (7件)： SILVA S R P (Univ. Surrey, Surrey, GBR) ,  XU S (Nanyang Technol. Univ., Singapore, SGP) ,  TAY B K (Nanyang Technol. Univ., Singapore, SGP) ,  TAN H S (Nanyang Technol. Univ., Singapore, SGP) ,  SCHEIBE H-J (Fraunhofer-Inst. Werkstoffphysik und Schichttechnol., Dresden, DEU) ,  CHHOWALLA M (Cambridge Univ., Cambridge, GBR) ,  MILNE W I (Cambridge Univ., Cambridge, GBR)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 290/291  ページ： 317-322  発行年： 1996年12月15日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標記のta-C薄膜をフィルタ陰極真空アーク(FCVA)とパル...

シソーラス用語： レーザ蒸着 ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (2件)： 四面体非晶質炭素 ,  薄膜