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J-GLOBAL ID：200902126567332581   整理番号：98A0734969

多結晶シリコン太陽電池のための反応性イオンエッチングによる表面テクスチャ化

Surface texturing using reactive ion etching for multicrystalline silicon solar cells.

著者 (3件)： FUKUI K (Kyocera Corp., Shiga, JPN) ,  INOMATA Y (Kyocera Corp., Shiga, JPN) ,  SHIRASAWA K (Kyocera Corp., Shiga, JPN)
資料名： Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference  (Conference Record of the IEEE Photovoltaic Specialists Conference)
巻： 26th  ページ： 47-50  発行年： 1997年 
JST資料番号： E0756A  ISSN： 0160-8371  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶シリコン太陽電池のための反応性イオンエッチング(RIE...

シソーラス用語： *太陽電池 ,...
準シソーラス用語： 表面テクスチャ化 ,...

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分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 多結晶シリコン太陽電池 ,  反応性イオンエッチング ,  表面テクスチャ