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J-GLOBAL ID：200902126600725489   整理番号：01A1039225

フォトリソグラフィーと高速プロトタイピングシステムへの新しいDMDの応用

A New Application of DMD to Photolithography and Rapid Prototyping System.

著者 (1件)： TAKAHASHI K (Saitama Univ., Saitama, JPN)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 101  号： 326(EMD2001 45-55)  ページ： 53-58  発行年： 2001年09月27日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 微細加工技術で作られたプロジェクタ用ディジタルマイクロミラー...

シソーラス用語： *マイクロマシニング ,...
準シソーラス用語： DMD【マイクロマシニング】

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分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (4件)：

• HORNBECK, L. J. Digital Micro light processing : A new MEMS-based display. 4th Sensor symp., 1996. 1996, 297-304
• TAKAHASHI, K. A UV-Exposure System using DMD. Electronics and comm. In Japan, Part 2. 2000, 83, 7, 56-58
• KANEKO, Y. Centrifugal Pump Fabricated by Non-scanning Rapid Prototyping System. Proc. of the 40th Conf., the Japan Soc. of Med. Electron. and Biol. Eng., 2001. 2001, 321
• TAKAHASHI, K. High-Speed Rapid Prototyping System using a Digital Micromirror Device. 17th Sensor Symp., 2000. 2000, 271-274

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトリソグラフィー ,  高速プロトタイピング ,  応用