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J-GLOBAL ID：200902126883051918   整理番号：94A0432124

リアクティブ・エッチング装置の改良

Improvement of Reactive Etching System.
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著者 (2件)：
石井孝一

石井孝一 について

(木更津工高専)

木更津工高専 について

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小平真次

小平真次 について

(木更津工高専)

木更津工高専 について


資料名：
木更津工業高等専門学校紀要  (Bulletin of Kisarazu National Technical College)

木更津工業高等専門学校紀要 について


号： 27  ページ： 19-22  発行年： 1994年03月 
JST資料番号： S0774A  ISSN： 0285-7901  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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13.56MHzのRF電力注入が可能な反応性イオンビームエッ...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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RIE【エッチング】

RIE【エッチング】 について

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分類 (2件)：
分類
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プラズマ応用 
(BJ02110K)

プラズマ応用 について

,  固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について


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