157nmレジスト設計の展望

KUNZ R R; BLOOMSTEIN T M; HARDY D E; GOODMAN R B; DOWNS D K; CURTIN J E

文献

J-GLOBAL ID：200902126965627443 整理番号：00A0122773

157nmレジスト設計の展望

Outlook for 157nm resist design.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=00A0122773&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0122773&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 17 号： 6 ページ： 3267-3272 発行年： 1999年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

157nm用の多数の候補レジスト材料の透明度を測定し,どの化...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=00A0122773&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=E0974A") }}

固体デバイス製造技術一般 , 試料技術

, ,

前のページに戻る