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J-GLOBAL ID：200902127520515498   整理番号：00A0718624

高速原子ビームエッチングによって作製されたガラス基板に対する広帯域無反射コーティング

Broadband Antireflection Gratings for Glass Substrates Fabricated by Fast Atom Beam Etching.

著者 (3件)： KANAMORI Y (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KIKUTA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  HANE K (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 39  号： 7B  ページ： L735-L737  発行年： 2000年07月15日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板表面を電子ビームリソグラフィによってパターン化し,...

シソーラス用語： *回折格子 ,...

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分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (26件)：

• 1) J. Zhao, A. Wang, E. Abbaspour-Sani, F. Yun and M. A. Green: IEEE Electron Device Lett. 18 (1997) 48.
• 2) J. Zhao and M. A. Green: IEEE Trans. Electron Devices 38 (1991) 1925.
• 3) P. Nubile: Thin Solid Films 342 (1999) 257.
• 4) P. Lalanne and G. M. Morris: Proc. SPIE 2776 (1996) 300.
• 5) M. A. Green, A. W. Blakers, J. Zhao, A. M. Milne, A. Wang and X. Dai: IEEE Trans. Electron Devices 37 (1990) 331.

タイトルに関連する用語 (7件)： 原子ビーム ,  エッチング ,  作製 ,  ガラス基板 ,  広帯域 ,  無反射 ,  コーティング