電子ビーム蒸着によって作った非晶質Siの熱容量と緩和の熱量測定による研究

TSANG K H; KUI H W; CHIK K P

文献

J-GLOBAL ID：200902128079767199 整理番号：93A0961156

電子ビーム蒸着によって作った非晶質Siの熱容量と緩和の熱量測定による研究

Calorimetric studies of the heat capacity and relaxation of amorphous Si prepared by electron beam evaporation.

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巻： 74 号： 8 ページ： 4932-4935 発行年： 1993年10月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

360~820Kの温度範囲で示差走査熱量測定によって標記を研...

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比熱・熱伝導一般 , 半導体薄膜

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