Si上のGe(105)の安定性の起源  新しい構造模型と表面歪緩和

文献

J-GLOBAL ID：200902128583341933 整理番号：02A0449216

Si上のGe(105)の安定性の起源新しい構造模型と表面歪緩和

Origin of the Stability of Ge(105) on Si: A New Structure Model and Surface Strain Relaxation.

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著者 (8件)：

FUJIKAWA Y

FUJIKAWA Y について

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)