文献

J-GLOBAL ID：200902129001329558   整理番号：99A0512481

イオンプレーティング法によるセラミックスTiN/CrN積層薄膜の合成と評価

Synthesis and Characterization of Ceramics TiN/CrN Multi-layer Thin Films by Arc Ion Plating.

著者 (4件)： 玉岡克康 (龍谷大 大学院) ,  榎孝一 (龍谷大 理工) ,  青井芳史 (龍谷大 理工) ,  上条栄治 (龍谷大 理工)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 42  号： 3  ページ： 265-268  発行年： 1999年03月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： TiN/CrN多層薄膜をステンレス鋼306及びシリコン基板上...

シソーラス用語： *チタン化合物 ,...

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分類 (2件)： ガラス・セラミック被覆一般  (YC02010D) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

引用文献 (4件)：

• 中山明. 真空. 1994, 30, 55
• HELMERSON, U. J. Appl. Phys. 1987, 62, 481
• PANJAN, P. Surface and Coating Technology. 1998, 98, 1497
• 矢田雅規. 応用物理. 1990, 59, 1604

タイトルに関連する用語 (5件)： イオンプレーティング法 ,  セラミックス ,  TiN ,  薄膜 ,  評価