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J-GLOBAL ID：200902129349037399   整理番号：93A0960048

Injection-related damage in metal-oxide-silicon tunnel diodes.

著者 (4件)：
FARMER K R

FARMER K R について

(New Jersey Inst. Technology, NJ)

New Jersey Inst. Technology, NJ について

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LUNDGREN P

LUNDGREN P について

(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)

Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE について

, 
ANDERSSON M O

ANDERSSON M O について

(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)

Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE について

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ENGSTROM O

ENGSTROM O について

(Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE)

Chalmers Univ. Technology, Gothenburg, SWE について


資料名：
Amorphous Insulating Thin Films  (Amorphous Insulating Thin Films)

Amorphous Insulating Thin Films について


ページ： 229-234  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19930557  ISBN： 1-55899-179-4  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

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