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J-GLOBAL ID：200902129830474590   整理番号：02A0674106

UVB及びX線誘発染色体異常形成に対するDNAトポイソメラーゼ阻害剤の後処理の影響

Post-treatment effects of DNA topoisomerase inhibitors on UVB- and X-ray-induced chromosomal aberration formations.
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著者 (2件)：
ISHII Y

ISHII Y について

(Osaka Univ., Osaka, JPN)

Osaka Univ., Osaka, JPN について

, 
IKUSHIMA T

IKUSHIMA T について

(Kyoto Univ. Education, Kyoto, JPN)

Kyoto Univ. Education, Kyoto, JPN について


資料名：
Mutation Research  (Mutation Research)

Mutation Research について


巻： 504  号： 1/2  ページ： 67-74  発行年： 2002年07月25日 
JST資料番号： C0520A  ISSN： 0027-5107  CODEN： MRFMEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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V79細胞の培養の最後の3h(G2)を...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*X線照射

X線照射 について

,...
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橋架け化合物

橋架け化合物 について


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分類 (2件)：
分類
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遺伝的変異 
(EC01030Y)

遺伝的変異 について

,  細胞レベルに対する影響 
(EK02030D)

細胞レベルに対する影響 について

物質索引 (1件)：
物質索引
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ノガラマイシン

ノガラマイシン について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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UVB

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, 
X線

X線 について

, 
誘発

誘発 について

, 
染色体異常

染色体異常 について

, 
DNAトポイソメラーゼ阻害剤

DNAトポイソメラーゼ阻害剤 について

, 
後処理

後処理 について


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