文献

J-GLOBAL ID：200902130191457415   整理番号：01A0778456

スパッタリングで形成したTiリッチTi-Ni薄膜の形状記憶挙動に及ぼす組成及び焼なましの影響

Effects of Composition and Annealing on Shape Memory Behavior of Ti-Rich Ti-Ni Thin Films Formed by Sputtering.

著者 (4件)： ISHIDA A (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  SATO M (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  KIMURA T (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  SAWAGUCHI T (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 42  号： 6  ページ： 1060-1067  発行年： 2001年06月 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタでマイクロマシン用のTi-45.2(A)...

シソーラス用語： チタン合金 ,...

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分類 (1件)： その他の金属組織学  (WB01040Y)

引用文献 (23件)：

• 1) S. Miyazaki and A. Ishida: Materia Japan 38 (1999) 279–280.
• 2) A. D. Johnson: J. Microeng. 1 (1991) 34–41.
• 3) K. Kuribayashi, M. Yoshitake and S. Ogawa: Proc. IEEE Micro Electro Mechanical Systems (MEMS-90) (1990) pp. 217–221.
• 4) A. Ishida, A. Takei and S. Miyazaki: Thin Solid Films 228 (1993) 210–214.
• 5) S. Miyazaki and A. Ishida: Mater. Trans., JIM 35 (1994) 14–19.

タイトルに関連する用語 (8件)： スパッタリング ,  Ti ,  Ni ,  薄膜 ,  形状記憶 ,  挙動 ,  組成 ,  焼なまし