純アルゴンガス下でのrfマグネトロンスパッタリングによる高品質CMR薄膜の堆積

文献

J-GLOBAL ID：200902130300523385 整理番号：01A0657348

Deposition of high quality CMR thin films by rf magnetron sputtering under pure argon gas.

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=01A0657348&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0657348&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0954A") }}

著者 (3件)： , ,
資料名：
巻： 36 号： 7/8 ページ： 1463-1469 発行年： 2001年05月
JST資料番号： B0954A ISSN： 0025-5408 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

軸外れrfマグネトロンスパッタリングを使用して,SrTiO<...

,...

続きはJDreamIII（有料）にて {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=01A0657348&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0954A") }}

酸化物薄膜 , 酸化物結晶の磁性

, , ,

前のページに戻る