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J-GLOBAL ID:200902130300786114   整理番号:95A0910836

ArFエキシマレーザアブレーションによるSrBi4Ti4O15/Bi2Sr2CuO6+y構造のヘテロエピタキシャル成長

Heteroepitaxial Growth of SrBi4Ti4O15/Bi2Sr2CuO6+y Structure by ArF Excimer Laser Ablation.
著者 (5件):
資料名:
巻: 34  号: 9A  ページ: L1145-L1147  発行年: 1995年09月01日 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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エキシマレーザ蒸着法で標記薄膜を(100)MgO基板上に成長...
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
引用文献 (16件):
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