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J-GLOBAL ID：200902130384021290   整理番号：01A0344113

パルスイオンビーム蒸発による(Ba_xSr_1-x)TiO₃の薄膜蒸着

Thin-Film Deposition of (Ba_xSr_1-x)TiO₃ by Pulsed Ion Beam Evaporation.

著者 (4件)： SONEGAWA T (Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN) ,  OHTOMO K (Nagaoka Univ., Niigata, JPN) ,  JIANG W (Nagaoka Univ., Niigata, JPN) ,  YATSUI K (Nagaoka Univ., Niigata, JPN)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 28  号： 5  ページ： 1545-1548  発行年： 2000年10月 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 強力なパルスイオンビームで生成したアブレーションプラズマを用...

シソーラス用語： *プラズマCVD ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスイオンビーム ,  蒸発 ,  薄膜蒸着