エバネセント近接場でのナノリソグラフィー

ALKAISI M M; BLAIKIE R J; MCNAB S J

文献

J-GLOBAL ID：200902130498336119 整理番号：01A0770319

エバネセント近接場でのナノリソグラフィー

Nanolithography in the Evanescent Near Field.

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巻： 13 号： 12/13 ページ： 877-887 発行年： 2001年07月04日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

フォトリソグラフィーで超薄膜レジストと組合わせたエバネセント...

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固体デバイス製造技術一般

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