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J-GLOBAL ID：200902131101269697   整理番号：97A1028140

反応性イオンエッチング法を使用した大面積多結晶シリコン太陽電池の表面テクスチャ処理

Surface texturing of large area multicrystalline silicon solar cells using reactive ion etching method.

著者 (3件)： INOMATA Y (Kyocera Corp., Shiga, JPN) ,  FUKUI K (Kyocera Corp., Shiga, JPN) ,  SHIRASAWA K (Kyocera Corp., Shiga, JPN)
資料名： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻： 48  号： 1/4  ページ： 237-242  発行年： 1997年11月 
JST資料番号： D0513C  ISSN： 0927-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 反応性イオンエッチング法を,表面反射率を減少させるために多結...

シソーラス用語： RIE【エッチング】 ,...

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分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  半導体の表面構造  (BK15030A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 反応性イオンエッチング ,  大面積 ,  多結晶シリコン太陽電池 ,  表面テクスチャ