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J-GLOBAL ID：200902131581852729   整理番号：02A0717899

正規化高周波電界を用いた磁気中性ループ放電のプラズマ局在化に関する研究

Studies on the plasma localization of a magnetic neutral loop discharge using normalized radio frequency electric field.
著者 (2件)：
SUNG Y-M

SUNG Y-M について

(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)

Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN について

, 
HONDA C

HONDA C について

(Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN)

Miyazaki Univ., Miyazaki, JPN について


資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)

Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures について


巻： 20  号： 4  ページ： 1457-1464  発行年： 2002年07月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 1071-1023  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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中性ループ放電(NLD)の形成に必要な条件を確立するために,...
シソーラス用語：
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*プラズマ生成

プラズマ生成 について

,...
準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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中性ループ放電

中性ループ放電 について

,...
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分類 (1件)：
分類
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プラズマ生成・加熱 
(BJ02060E)

プラズマ生成・加熱 について

タイトルに関連する用語 (9件)：
タイトルに関連する用語
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正規化

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高周波電界

高周波電界 について

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磁気

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中性

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ループ

ループ について

, 
放電

放電 について

, 
プラズマ

プラズマ について

, 
局在化

局在化 について

, 
研究

研究 について


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