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J-GLOBAL ID：200902133753559835   整理番号：97A0524477

大気中への非平衡RF放電の放出と半導体関連プロセスへの応用

RF Cold Plasma Applicable to Open Air Semiconductor processes.

著者 (4件)： 鯉沼秀臣 (東京工大) ,  堀内賢雄 (東京工大) ,  小出美幸 (東京工大) ,  LEE B J (東京工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 44th  号： 0  ページ： 1388  発行年： 1997年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気中 ,  非平衡 ,  RF放電 ,  放出 ,  プロセス ,  応用