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J-GLOBAL ID：200902133754003237   整理番号：02A0852854

変調プラズマアシステドPLD法(MPA-PLD)によるsp³結合性5H-BNの225nm紫外発光

著者 (6件)： 小松正二郎 (物質・材料研究機構 物質研) ,  神田久生 (物質・材料研究機構 物質研) ,  倉嶋敬次 (物質・材料研究機構 物質研) ,  桑野弘行 (法政大) ,  守吉佑介 (法政大) ,  岡田勝行 (物質・材料研究機構 物質研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 63rd  号： 1  ページ： 116  発行年： 2002年09月24日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半導体薄膜 ,...

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分類 (2件)： 半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： 変調 ,  PLD法 ,  MPA ,  PLD ,  Sp3 ,  結合性