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J-GLOBAL ID：200902134651940646   整理番号：00A0826899

Specular Spectroscopic Profilometry for the Sub-0.18μm PolySi-Gate Processes.

著者 (4件)： NIU X (Timbre Technol., Inc., CA) ,  JAKATDAR N (Timbre Technol., Inc., CA) ,  YEDUR S (Advanced Micro Devices, CA) ,  SINGH B (Advanced Micro Devices, CA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3998  ページ： 846-855  発行年： 2000年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)