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J-GLOBAL ID：200902135107216655   整理番号：94A0114359

プラズマ処理における微粒子汚染に関係する科学的技術的問題

Scientific and technological issues pertaining to particle contamination in plasma processing.
著者 (1件)：
SELWYN G S

SELWYN G S について

(IBM Research Division, NY)

IBM Research Division, NY について


資料名：
Particles in Gases and Liquids 3  (Particles in Gases and Liquids 3)

Particles in Gases and Liquids 3 について


ページ： 213-222  発行年： 1993年 
JST資料番号： K19940047  ISBN： 0-306-44485-2  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
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低温処理プラズマ中の顕微鏡的粒子の最近の発見により科学的技術...
シソーラス用語：
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粒状物汚染

粒状物汚染 について

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プラズマプロセシング

プラズマプロセシング について


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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

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タイトルに関連する用語
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プラズマ処理

プラズマ処理 について

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微粒子汚染

微粒子汚染 について

, 
科学

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