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J-GLOBAL ID：200902135338346705   整理番号：01A0238091

酸化物エッチプラズマプロセシング放電中の真空紫外スペクトルの絶対強度

Absolute intensities of the vacuum ultraviolet spectra in oxide etch plasma processing discharges.

著者 (5件)： WOODWORTH J R (Sandia National Lab., New Mexico) ,  RILEY M E (Sandia National Lab., New Mexico) ,  AMATUCCI V A (Sandia National Lab., New Mexico) ,  HAMILTON T W (Sandia National Lab., New Mexico) ,  ARAGON B P (Sandia National Lab., New Mexico)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 19  号： 1  ページ： 45-55  発行年： 2001年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化物のプラズマエッチング中にSiウエハに入射する4.9~2...

シソーラス用語： RF放電 ,...

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分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (3件)： トリフルオロメタン ,  ヘキサフルオロエタン ,  オクタフルオロシクロブタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化物 ,  エッチ ,  プラズマプロセシング ,  放電 ,  真空紫外スペクトル ,  絶対強度