文献

J-GLOBAL ID：200902135404421152   整理番号：02A0067771

大気圧,RF-生成プラズマ源を用いた材料処理

Materials Processing Using an Atmospheric Pressure, RF-Generated Plasma Source.

著者 (4件)： SELWYN G S (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  HERRMANN H W (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  PARK J (Los Alamos National Lab., NM, USA) ,  HENINS I (Los Alamos National Lab., NM, USA)
資料名： Contributions to Plasma Physics  (Contributions to Plasma Physics)
巻： 41  号： 6  ページ： 610-619  発行年： 2001年 
JST資料番号： H0173A  ISSN： 0863-1042  CODEN： BPPHAA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 気体放電 ,...
準シソーラス用語： *プラズマプロセシング ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0067771&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0173A") }}

分類 (1件)： プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 大気圧 ,  RF ,  プラズマ源