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J-GLOBAL ID：200902135442815482   整理番号：93A0597472

Si上にマグネトロンスパッタ蒸着したTi膜の残留応力と亀裂特性

Residual stresses and fracture properties of magnetron sputtered Ti films on Si microelements.

著者 (7件)： LJUNGCRANTZ H (Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE) ,  HULTMAN L (Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE) ,  SUNDGREN J-E (Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE) ,  JOHANSSON S (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  KRISTENSEN N (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  SCHWEITZ J-A (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  SHUTE C J (Linkoeping Univ., Linkoeping, SWE)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 11  号： 3  ページ： 543-553  発行年： 1993年05月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ti薄膜の微細構造,残留応力および機械的性質に対する蒸着パラ...

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,...

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分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属の機械的性質  (BL01022T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  マグネトロン ,  スパッタ蒸着 ,  Ti膜 ,  残留応力 ,  亀裂