文献
J-GLOBAL ID:200902135581837458
整理番号:94A0195663
TICSを用いたSiO2の熱CVD
Thermal CVD of Silicon-Dioxide from TICS.
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{{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=94A0195663&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0055A") }}