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J-GLOBAL ID：200902135964682377   整理番号：98A0789567

極端紫外リソグラフィ用高反射多層コーティングの膜応力の減少と補償の進歩

Advances in the reduction and compensation of film stress in high-reflectance multilayer coatings for extreme ultraviolet lithography.

著者 (2件)： MIRKARIMI P B (Lawrence Livermore National Lab., CA, USA) ,  MONTCALM C (Lawrence Livermore National Lab., CA, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3331  ページ： 133-148  発行年： 1998年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 極端紫外 ,  リソグラフィ ,  多層コーティング ,  膜応力 ,  補償