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J-GLOBAL ID：200902136214571537   整理番号：98A0810879

クロム薄膜中の残留応力に及ぼすイオン照射の影響

Effects of ion irradiation on the residual stresses in Cr thin films.

著者 (5件)： MISRA A (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  FAYEULLE S (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  KUNG H (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  MITCHELL T E (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  NASTASI M (Los Alamos National Lab., New Mexico)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 73  号： 7  ページ： 891-893  発行年： 1998年08月17日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温でSi{100}上にスパッタ蒸着したCr薄膜は,ウエハ曲...

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,...

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分類 (2件)： 金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： クロム ,  薄膜 ,  残留応力 ,  イオン照射