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J-GLOBAL ID：200902136796198592   整理番号：01A0108899

フォトニック結晶の製造過程における自己修復効果

Self-healing effects in the fabrication process of photonic crystals.

著者 (4件)： KAWASHIMA T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  MIURA K (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SATO T (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KAWAKAMI S (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 77  号： 16  ページ： 2613-2615  発行年： 2000年10月16日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 波形の多層膜を積層して多次元の周期的ナノ構造を作製する自己ク...

シソーラス用語： 量子光学 ,...

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分類 (1件)： 量子光学一般  (BD04010X)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトニック結晶 ,  製造過程 ,  自己修復