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J-GLOBAL ID:200902137403884208   整理番号:97A0207592

テトラキス(ジメチルアミド)チタン(IV)およびビス[N,N′-ビス(tert-ブチル)エチレンジアミド]チタン(IV)からのTiNxCy膜の蒸着に関するその場XPS研究

In Situ XPS Studies of the Deposition of TiNxCy Films from Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) and Bis[N,N′-bis(tert-butyl)ethylenediamido]titanium(IV).
著者 (5件):
資料名:
巻:号: 12  ページ: 2712-2720  発行年: 1996年12月 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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標題前記前駆体(TMT)を使って低圧OMCVD蒸着させ,その...
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分類 (3件):
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塩  ,  その他の無機化合物の薄膜  ,  第4族,第5族元素の錯体 

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